Desktop Pro薄膜沉积-磁控溅射

Desktop Pro薄膜沉积-磁控溅射

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具体成交价以合同协议为准
2023-02-14 12:03:04
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上海纳腾仪器有限公司

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产品简介

详细介绍

如果实验室空间是您关心的问题,紧凑、高真空Desktop Pro溅射系统生产能力大,而占用的桌面空间不到36英寸(914mm)。Desktop Pro可以提供共聚焦溅射以及磁性和/或介电材料的沉积。

Desktop Pro以共焦结构支持一个或两个阴极,在4英寸直径上提供高薄膜均匀性。其能够在不到30分钟的时间内抽气至高真空(10-6托范围),这是需要快速转换的多用户环境中解决方案。



用途:

溅射 材料研究 产品质量控制和质量保证

半导体故障分析 纳米技术 化合物半导体


优势:

这一直流和射频溅射系统将提高您的研究生产力,提供一致、可重复的性能,同时,可大幅节约测试环境的空间。

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