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简介
光学特性从反射和干涉影像中显现出来。膜厚测量仪允许用户从10nm到250μm分析光学图层厚度。用户可以观察到一副图层厚度分辨率达到0.1nm的单图。根据用户选择的软件，用户可以分析单图层或者小于二分之一的多图层，并且可以测量图层厚度和半导体加工影像或者增透涂料。
特点
·分析单一或者多层
·分辨率到0.1nm
·适用于原地，在线测量厚度
工作原理
两个共同的通道用来测量膜层特征，光谱反射/传播和椭圆偏光。膜厚测量仪利用反射原理来测量入射光到达样品表面后从薄膜反射过来的波段。
通过n和k搜索
很多图层可以被认定是一个薄膜的堆积。很多的薄膜和基地原料都能被金属、电介质、非结晶或者水晶半导体。膜厚测量仪软件包含一个巨大的n和k价值库提供很多的普遍原料。用户可以编辑和添加数据库。同样，用户可以通过方程式编程或者散射公式自定义材料类型。
用途
膜厚测量仪适用于原地在线厚度检测和移除速率应用程序，并且可以被用来检测氧化物的膜厚度，碳化硅，光阻材料和其他半导体薄膜处理。膜厚测量仪可检测增透膜涂层、耐摩擦涂层和粗糙涂层。
膜厚测量仪
NANOCALC-2000-UV-VIS-NIR | |
波长 | 250-1100nm |
厚度 | 10nm-70μm |
光源 | 氘灯和卤素钨灯 |
NANOCALC-2000-UV-VIS | |
波长 | 250-850nm |
厚度 | 10nm-20μm |
光源 | 氘灯和卤素钨灯 |
NANOCALC-2000-VIS-NIR | |
波长 | 400-110nm |
厚度 | 20nm-100μm |
光源 | 卤素钨灯 |
NANOCALC-2000-VIS | |
波长 | 400-850nm |
厚度 | 50nm-20μm |
光源 | 卤素钨灯 |
NANOCALC-2000-NIR | |
波长 | 650-1100nm |
厚度 | 70nm-70μm |
光源 | 卤素钨灯 |
反射计应用软件，需求下面项目
NC-2UV-VIS100-2 | 两支紫外光线 400μm×2m 2×SMA 连接器 灵活金属包壳 |
NC-STATE | 单点反射测量非透明样品 |
Step-Wafer | 5 Steps 0-500mm ，标定误差 4’’ |
如果应用放大镜，则需求下面的选项
NC-7UV-VIS200-2 | 反射探头用MFA-C-Mount对显微镜的应用 |
Stop-Wafer | 5 Steps 0-500mm ，标定误差 4’’ |
入射角 | 90° |
层数 | 3 或者 较少 |
附加测量需要 | Yes |
透明材料 | Yes |
传输模式 | Yes |
&, lt;, SPAN style="FONT-FAMILY: 宋体; COLOR: black; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'; mso-bidi-font-size: 10.5pt">粗糙物料 | Yes |
测量速度 | 100ms-1s |
在线 | Yes |
机械公差（高度） | 新参考资料或者准直（74-UV） |
机械公差（角度） | Yes，有新的参考资料 |
微黑子选项 | Yes，有显微镜 |
视觉选项 | Yes，有显微镜 |
映射选项 | 6″和12″XYZ映射表格 |
真空 | Yes |
