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箱式高温气氛炉概述:
本系列产品,额定温度分别为1100℃、1400℃、1600℃、1700℃,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的密退火与微晶化、晶体的密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。
特点:
1.设备主体采用双层钣金结构,双层钣金之间装有风机,加强对流,,设备外表面温度低。
2.炉门、炉顶采用高温硅橡胶密封,炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、出气口、抽真空口。
3.炉膛材料采用优质氧化铝多晶纤维真空吸附制成,较传统耐火材料,热损耗低,保温效果*,节能50%以上。
4.加热元件采用优质电阻丝,发热均匀,热效比高,使用寿命长。加热元件悬挂于炉膛内,维护简便。
5.温度控制系统采用人工智能调节技术,具有PID调节、模糊控制、自整定能力等功能,可编制50段升降温控制程序程序。
6.炉膛有效区域内温场均匀性优异,经实地检测≤±5℃,符合国标二电炉标准。
7.炉内可以通氩气、氮气等多种气体,并能预抽真空,真空度可达-0.08MPa,气氛压力可以达到0.1Mpa,炉体采用厚钢板加工而成,防漏气测试。
箱式高温气氛炉参数:
项目 | 单位 | AFD-4-1400 |
额定功率 | KW | 4 |
电压/频率 | v/HZ | 220v/50HZ |
工作室尺寸 | (深*宽*高) | 300*200*200 |
温度 | 度 | 1400℃ |
工作温度 | 度 | 1300℃ |
空炉升温速率 |
| ≤20℃/min |
温场均匀度 |
| ≤5℃/min |
加热元件 |
| 硅碳棒 |
测温元件 |
| S型热电偶 |
控温度 |
| ±1℃ |
温控方式 |
| 智能型程序模糊PID控制 |