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离子减薄制样技术属于离子束加工范畴。其方法是用高能离子束轰击样品表面、高能离子与样品表面原子发生弹性碰撞、样品表面原子能量增大至高于该原子逸出功时，便飞离样品，从而使样品逐渐减薄。离子减薄仪通常用双枪从样品两侧轰击。样品随着支架旋转，使得离子束轰击均匀。
GL2011离子减薄仪离子抛光仪产品特点
多功能样品台，兼具离子减薄和离子抛光功能
离子束流自动控制
监视系统采用聚光光源
减薄过程无离子束遮挡
精心设计防污染观察系统
结构紧凑，体积小，精密
设计，防误操作系统
样品洁净，样品信息更为
真实可靠
技术参数
产品名称 | 离子减薄仪 |
离子束加速电压 | 0-10KV 连续可调 |
大束流密度 | 大于 200μA/cm |
减薄速度 ( 铜) | 30μ/h（大） |
样品对离子束的倾角 | 5-90°（普通台） 0-90°（精细抛光台） |
真空度 | 5×10-3Pa（不送气） |
离子束对样品的小倾角 | 7°（普通试样台） 2°（抛光试样台） |
