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Nanotrac Wave纳米粒度仪的仪器简介:
纳米粒度测量——动态光背散射技术
随着颗粒粒径的减小,例如分子级别的大小,颗粒对光的散射效率急剧降低,使得经典动态光散射技术的自相关检测(PCS)变得更加不确定。40多年来,Microtrac公司一直致力于激光散射技术在颗粒粒度测量中的应用。作为行业的先锋,早在1990年,超细颗粒分析仪器 UPA(Ultrafine Particle Analyzer)研发成功,*引入由于颗粒在悬浮体系中的布朗运动而产生频率变化的能谱概念,快速准确地得到被测体系的纳米粒度分布。2001年,利用背散射(Back-scattered)和异相多谱勒频移(Heterodyne Doppler Frequency Shifts)技术,结合动态光散射理论和*的数学处理模型,将分析范围延伸至0.8nm-6.5μm,样品浓度更可高达百分之四十,基本实现样品的原位检测。异相多普勒频移技术采用可控参考稳定频率,直接比照因颗粒的布朗运动而产生的频率漂移,综合考虑被测体系的实时温度和粘度,较之于传统的自相关技术,信号强度高出几个数量级。另外,新型“Y”型梯度光纤探针的使用,实现了对样品的直接测量,*的减少了背景噪音,提高了仪器的分辨率。
Nanotrac Wave纳米粒度仪的主要技术特点:
粒度分析范围: | 0.8nm-6.5µm |
重现性: | 误差≤1% |
浓度范围: | ppb-40% |
检测角度: | 180° |
分析时间: | 30-120秒 |
准确性: | 全量程米氏理论及非球形颗粒校正因子 |
测量精度: | 无需预选,依据实际测量结果,自动生成单峰/多峰分布结果 |
理论设计温度: | 0-90℃,可以进行程序升温或降温 |
兼容性: | 兼容任何有机溶剂及大多数酸性或碱性溶液 |
测量原理: | 粒度测量:动态光背散射技术和全量程米氏理论处理 分子量测量:水力直径或德拜曲线 技术:膜电极,微电场电势测量,“Y”型光纤探针设计,异相多普勒频移,可控参比方法,快速傅立叶转换算法,非球形颗粒校正因子 |
光学系统: | 3mW780nm半导体固定位置激光器,通过梯度步进光纤直接照射样品,在固定位置用硅光二极管接受背散射光信号,无需校正光路 |
软件系统: | *的Microtrac FLEX软件提供强大的数据处理能力,包括图形,数据输出/输入,个性化输出报告,及各种文字处理功能,如PDF格式输出, Internet共享数据,Microsoft Access格式(OLE)等。体积,数量,面积及光强分布,包括积分/微分百分比和其他分析统计数据。数据的完整性符合21 CFR PART 11安全要求,包括口令保护,电子签名和*等。 |
外部环境: | 电源要求:90-240VAC,5A,50/60Hz 环境要求:温度,10-40°C 相对湿度:小于95% |
配置: | 有内置和外置光纤测量探头可选 |