应用领域：冶金、铸造、机械、科研、商检、汽车、石化、造船、电力、航空、核电、金属和有色冶炼、加工和回收工业中的各种分析。

检测基体：铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基。

技术参数：

光学系统：帕型-龙格罗兰圆全谱真空型光学系统；

波长范围：170-580nm

焦距：400mm

探测器：高性能CCD阵列

光源类型：数字光源，高能预燃技术（HEPS）

放电频率：100-1000Hz

放电电流：400A

工作电源：220VAC 50/60Hz

仪器尺寸：720*860*500mm

仪器重量：约100kg（不含真空系统）

检测时间：依据样品类型而定，一般25S左右

电极：钨材喷射电极

分析间隙：真空软件自动控制、监测

技术特点：

1.高性能光学系统

2.自动光路校准

3.单板式透镜设计

4.真空室一体化

5.真空防返油技术

6.开放式激发台

7.喷射电极技术

8.集成气路模块

9.全数字化激发光源

10.高速数据采集

11.以太数据传输

12.预制工作曲线

13.分析速度快捷

14.多基体分析

15.软件多国语言

光学系统

帕型-龙格结构的全谱光学系统

波长范围（130～850）nm

多个高性能CCD探测器

一体化光学室加工成型，动态罗档园安装，耐环境温度变化

真空光室设计，保证C、S、P、N都能达到

光室恒温控制，恒温温度为35℃

直射式光学技术及透镜MgF2材料，保证C、S、P、N紫外波长的能量

样品激发台

集成气路、喷射电极技术；

优化的氩气气路设计保证激发台的有效冷却和激发过程中产生的金属粉尘有效进入过滤器；使样品激发更加稳定，并大大减少了人体对金属粉尘的摄入，有利于保护操作人员的健康；

更小的激发空间，使氩气消耗更小；

便于使用的样品夹具

具有电极自吹扫功能，使电极使用寿命更长、清洁电极更加容易

13mm的激发孔径更利于样品分析

开放式样品激发台可适应各种大小、更多形状样品的分析（含线材）；

单反式透镜装置设计，一般人员都能方便对激发台进行维护和透镜的清洗

激发光源

全新可调节数字化光源，频率可达1000Hz；

高能预然技术（HEPS）；

优化设计的控制和功率电路，完善的激发安全保护功能

为不同分析目标提供火花、电弧或组合激发波形

放电电流：400A

数据采集系统

高性能ARM数据处理器，具有超高速数据采集及控制功能

高性能CCD固态检测技术，波段内的谱线全谱接收

外置式计算机（用户自选）

FPGA及高速数据通讯技术，数据读入功能强大，检测数据整体读入时间短

分析软件

基于Windows系统的多国语言的CCD全谱图形化分析软件，方便实用

*管理的控制整个测量过程及为用户提供强大的数据处理能力和测试报告输出能力

仪器可配置多条工厂校正曲线及更多材质分析及*解决方案

软件实现全谱检测、智能扣干扰、扣暗电流、背景和噪声的算法，提高仪器的分析能力

完备的自动系统诊断功能

完善的数据库管理功能，可方便查询、汇总数据

智能校正算法，保证仪器稳定可靠

完备的谱线信息和干扰扣除算法，保证仪器分析更为精准

适应Windows操作系统

能够自动完成数据采集、处理、生成office办公软件能接受的数据格式

实验室环境

环境要求

仪器须放置在实验室内，室内面积大于10平方米，并确保周围无有害、易燃及腐蚀性的气体。注意事项：禁止将本仪器置于化学分析实验室内。

工作温度：10℃～30℃，3小时内室温波动小于2℃，要求实验室安装空调。

存储温度：0℃～45℃

环境相对湿度：20%～80%，对于潮湿地区，需配备一台去湿机

全谱直读光谱仪TY-9000的分光室装在具有温控装置的箱体内，能在上述环境范围内正常工作，若超出上述要求范围，仪器的使用寿命和测量精度将受到影响

电源要求

电源：单相220±20V、1KVA的电源供电。

1kVA～3kVA的单相220V交流参数稳压器。

为保证仪器可靠使用，用户必须保证电网的PE保护地良好接地，且与其他大型设备的保护地分开。如果用户不能保证PE良好接地，请为仪器单独准备一根地线，要求接地电阻小于4欧姆。

氩气要求

1.氩气纯度≥99.999%，含氧量≤2ppm，含H₂O量≤5ppm，（氩气瓶不能露天存放，严禁雨淋）。如无高纯氩气，建议使用氩气净化器。

2.氩气使用流量：待机流量 约0.1L/min，维持流量约（0.4-0.5）L/min，激发流量约3.5L/min。

3.氩气控制压力：0.5Mpa。

氩气连接管

必须使用随机提供的氩气铜管连接。

排气瓶

仪器排出的废气通过一根14mm内径的PVC增强管排到随机提供的过滤瓶中。需要及时清理更换以防止出气不畅。

样品制备

对于铝基、铜基等有色金属样品必须使用车床制备样品。

对于铁基样品必须使用磨样机制备样品，一台磨样机及一台落地式砂轮机，用于钢铁试样表面的打磨。铸铁样品白口化必须均匀。

用户需要准备一台切割机，用于外型不适于光谱仪分析的样品的处理；

被分析样品必须均匀，无气孔，无铸造缺陷,制备必须达到表面平滑，无氧化层，无油污，样品边缘无毛刺。

标准样品要求

随机附赠一块光谱校正标准样品，用于校正仪器的整体光谱漂移。除此之外，用户需准备适合自己产品类型的标准样品或内控样品，用于仪器分析曲线的校正。

PC和打印机要求
准备一台当前常规配置的PC（笔记本和台式机均可），要求内存1GB以上，CPU双核1.8G Hz以上，用于安装分析软件。

准备一台打印机，激光、喷墨或针式打印机均可，用于分析数据报表的打印。