上海伯东代理KRI 考夫曼离子源 KDC 160_美国 KRI 离子源-伯东企业（上海）有限公司手机版

产品简介

上海伯东代理美国进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 160是目前考夫曼 KDC 系列zui大,离子能量zui强的栅极离子源, 适用于已知的所有离子源应用, 离子源 KDC 160 高输出设计,zui大电流超过 1000 mA. 无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计,标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 800 mA.

详细介绍

KRI 考夫曼离子源 KDC 160
上海伯东代理美国进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 160是目前考夫曼 KDC 系列zui大,离子能量zui强的栅极离子源, 适用于已知的所有离子源应用, 离子源 KDC 160 高输出设计,zui大电流超过 1000 mA. 无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计,标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 800 mA.

KRI 考夫曼离子源 KDC 160 技术参数

型号	KDC 160
供电	DC magnetic confinement
- 阴极灯丝	2
- 阳极电压	0-100V DC
电子束	OptiBeam™
- 栅极	专用, 自对准
-栅极直径	16 cm
中和器	灯丝
电源控制	KSC 1212
配置	-
- 阴极中和器	Filament, Sidewinder Filament 或LFN 2000
- 安装	移动或快速法兰
- 高度	9.92'
- 直径	9.1'
- 离子束	聚焦平行散设
-加工材料	金属电介质半导体
-工艺气体	惰性活性混合
-安装距离	8-45”
- 自动控制	控制4种气体

* 可选: 可调角度的支架

KRI 考夫曼离子源 KDC 160 应用领域
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE

若您需要进一步的了解考夫曼离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 罗先生