上海伯东代理美国 KRI 霍尔离子源 eH200

上海伯东代理美国 KRI 霍尔离子源 eH200

参考价: ¥300000~¥600000

具体成交价以合同协议为准
2023-01-05 14:43:17
508
产品属性
关闭
伯东企业(上海)有限公司

伯东企业(上海)有限公司

免费会员
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

上海伯东代理美国进口 KRI 霍尔离子源 eH200 是霍尔离子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本设计离子源. 霍尔离子源 eH200 适用于小型真空腔内, 例如研发分析, 薄膜沉积和离子清洗. 霍尔离子源 eH200 操作简单是理想的生产工具.

详细介绍

霍尔离子源 eH 200

KRI 霍尔离子源 eH 200
上海伯东代理美国进口 KRI 霍尔离子源 eH200 是霍尔离子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本设计离子源. 霍尔离子源 eH200 适用于小型真空腔内, 例如研发分析, 薄膜沉积和离子清洗. 霍尔离子源 eH200 操作简单是理想的生产工具.

KRI 霍尔离子源 eH 200 技术参数:

型号

eH 200

供电

DC magnetic confinement

  - 电压

40-300V VDC

  - 离子源直径

~ 2 cm

  - 阳极结构

模块化

电源控制

eHx-3005A

配置

-

  - 阴极中和器

Filament or Hollow Cathode

  - 离子束发散角度

> 45° (hwhm)

  - 阳极

标准或 Grooved

  - 水冷

  - 底座

移动或快接法兰

  - 高度

2.0'

  - 直径

2.5'

  -加工材料

金属
电介质
半导体

  -工艺气体

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

  - 安装距离

6-24”

  - 自动控制

控制4种气体

* 可选: 可调角度的支架; Filamentless; Sidewinder

KRI 霍尔离子源 eH 200 应用领域:
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉积 DD


若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式

上海伯东: 罗先生




上一篇:KRi 大面积射频离子源应用于 12英寸,8英寸 IBE 离子束蚀刻系统 下一篇:KRi 考夫曼离子源表面预清洁Pre-clean 应用
提示

请选择您要拨打的电话: