膜厚测量仪的特点：本膜厚测量仪适用于nm及um级薄膜厚度测量，测量的空间分辨率（测量点的大小）可达10um，厚度测量准确度为nm级。
此款膜厚测量仪适用于：
显示器、触摸屏、太阳能电池、R2R 光学镀膜等产业的薄膜厚度测量
光学材料参数测量、彩色滤光片色度及穿透率测量。（如：Oxide, Nitride,
ITO, RGB CF, PR, PI…@ Si, Glass, PET…等样品）
膜厚测量仪的技术参数：
1.厚度测量范围：10 nm ~ 30 μm （采用Ocean Optics 光谱仪）
（Optional: up to 250 μm）
2.厚度测量重复性：< 1 nm @ 500 nm Oxide on Si
3.测量点大小 : Macro（~3 mm）
（Optional 选项加显微镜 : 10 μm – 3 mm）
4.测量时间：< 1 sec
5.其它功能：折射率（n）及消光系数（k）测量
反射率（R）及穿透率（T）测量
色度参数（x, y, Y, L*, a*, b*）测量
（Optional:在线检测、实时8-16 通道测量）
6. 机台尺寸：长宽高约31*27*30 （cm）。
