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1200℃迷你型真空气氛管式炉
产品详情:1200℃迷你型真空气氛管式炉采用双层壳体结构,炉腔材料采用高纯氧化铝,壳体两边安装有铝制散热器使得法兰温度小于80℃,内炉腔表面涂有1750℃进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉腔洁净度。
1200℃迷你型真空气氛管式炉适用范围:
主要应用于院校实验室、工矿企业实验室,应用于高、中、低温CVD工艺,如碳纳米管的研制,晶体硅基板镀膜,金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
产品名称 | 1200℃迷你型真空气氛管式炉 |
产品型号 | 1200℃ |
炉管尺寸 | Φ50*600mm |
温区长度 | 200mm |
恒温区长 | 100mm |
炉腔材料 | 高纯氧化铝纤维 |
工作温度 | 1200℃ |
正常工作温度 | ≤1100℃ |
温控 | 采用PID方式调节,可设置30段升降温程序温控精度:±1℃ 具有超温及断偶报警功能 |
加热速率 | 0~20℃/分 |
加热元件 | 掺钥铁铭铝电阻丝 |
工作电压 | AC 208-240单相,50/60 Hz |
大功率 | 2.5KW |
真空密封系统 | 炉管两端采用KF法兰进行密封,密封圈为硅胶密封圈 |
温度测试元件 | K型热电偶测温 |
净重 | 35 Kg |
炉管 | 石英管 |