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三温区管式炉
三温区管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室高温热处理工艺，适用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域；采用310S不锈钢金属管，可实现真空气氛下的样品热处理，炉底装有电动升降装置，炉体可倾斜15°，方便进出物料。 参考价￥80000 -
双温区管式炉
双温区管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室高温热处理工艺，适用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域；采用310S不锈钢金属管，可实现真空气氛下的样品热处理，炉底装有电动升降装置，炉体可倾斜15°，方便进出物料。 参考价￥16000 -
HYGL-60-1200单温区管式炉
单温区管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室高温热处理工艺，适用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域；采用310S不锈钢金属管，可实现真空气氛下的样品热处理，炉底装有电动升降装置，炉体可倾斜15°，方便进出物料。 参考价￥16000 -
真空炉精密设备
真空炉精密设备产品简介
真空环境中进行加热的设备。在金属罩壳或石英玻璃罩密封的炉膛中用管道与高真空泵系统联接。炉膛真空度可达133×(10-2～10-4)Pa。炉内加热系统可直接用电阻炉丝(如钨丝)通电加热，也可用高频感应加热。最高温度可达3000℃左右。主要用于陶瓷烧成、真空冶炼、电真空零件除气、退火、金属件的钎焊，以及陶瓷-金属封接等。 参考价￥500000 -
真空炉实验设备
真空炉实验设备产品简介
真空环境中进行加热的设备。在金属罩壳或石英玻璃罩密封的炉膛中用管道与高真空泵系统联接。炉膛真空度可达133×(10-2～10-4)Pa。炉内加热系统可直接用电阻炉丝(如钨丝)通电加热，也可用高频感应加热。最高温度可达3000℃左右。主要用于陶瓷烧成、真空冶炼、电真空零件除气、退火、金属件的钎焊，以及陶瓷-金属封接等。 参考价￥230000 -
真空炉设备
真空炉设备产品简介
真空环境中进行加热的设备。在金属罩壳或石英玻璃罩密封的炉膛中用管道与高真空泵系统联接。炉膛真空度可达133×(10-2～10-4)Pa。炉内加热系统可直接用电阻炉丝(如钨丝)通电加热，也可用高频感应加热。最高温度可达3000℃左右。主要用于陶瓷烧成、真空冶炼、电真空零件除气、退火、金属件的钎焊，以及陶瓷-金属封接等。 参考价￥230000 -
RGZKQ-1100真空钎焊炉
真空钎焊炉主要用于铝合金热交换器等铝制品真空钎焊，不锈钢、钛合金、硬质合金、高温合金、有色金属的钎焊及高速钢.工模具钢、轴承钢、不锈钢等材料的真空回火，以及有色金属的时效和退火处理以及不锈钢换热器、机油冷却器、不锈钢保温杯的真空钎焊。 参考价￥100000 -
HYGL-60-1200回转管式炉
回转管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室高温热处理工艺，适用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域；采用310S不锈钢金属管，可实现真空气氛下的样品热处理，炉底装有电动升降装置，炉体可倾斜15°，方便进出物料。 参考价￥18000 -
1200℃-1700℃真空烧结炉
真空烧结炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。 参考价￥200000 -
氨分解工业管式炉
氨分解工业管式炉产品，额定温度为 1050℃， 使用电热丝为加热元件， 质量过硬， 安全可靠， 适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结，玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、
陶瓷釉料制备、粉末冶金、 纳米材料的烧结、 金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求 的热处理， 是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。 参考价￥300000 -
HYJL1200真空井式坩埚炉
真空井式坩埚炉
本设备是由石英坩埚（或氧化铝陶瓷坩埚）和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片，也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。 参考价面议 -
GLHY1700-60管式气氛炉
管式气氛炉
管式气氛炉系列产品是公司采用自行研制开发的高性能高节能的新型电炉。产品结构合理先进：炉膛采用通用的陶瓷纤维板经*工艺构筑；钣金工艺采用国内 钢材生产企业原材料焊接而成，并经过多道检测程序；采用行业制造多段智能型程序控制器全过程自动控制温度,可满足客户对温度的各种控制需求；加热原件根据客户实际需求采用 国产或进口原件，发热效果明显，温场均匀。 参考价面议